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Nanotec研磨拋光機

產(chǎn)品時間:2024-03-28
Nanotec自動研磨拋光機用于簡單的薄膜厚度測量,自動拋光機用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M行拋光,并用光學顯微鏡測量拋光痕跡。旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M行拋光,用光學顯微鏡測量拋光痕跡,即可測出膜厚。

Nanotec研磨拋光機用于簡單的薄膜厚度測量

自動拋光機用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M行拋光,并用光學顯微鏡測量拋光痕跡。旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M行拋光,用光學顯微鏡測量拋光痕跡,即可測出膜厚。

Nanotec研磨拋光機特點:
無需樣品準備

橫斷面測量不需要樣品準備,如切割、拋光或樹脂嵌入,拍攝的樣品可以按原樣測量。

可以對多層薄膜進行評價

可以通過化學處理改變膜的成分作為色調(diào)的差異來評價各層膜的厚度
可以評估每層的薄膜厚度

Nanotec研磨拋光機應用:

TiN、CrN、TiAlN、TiCN等,DLC、電鍍、多層膜

通過測量拋光痕跡的結(jié)果,對各層涂層的厚度進行評價,根據(jù)ISO 26423:2009

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) -Determination of coating thickness by crater-grinding method(凹坑研磨法測定涂層厚度)的計算方法,計算涂層厚度。為了使用本試驗機測量涂層厚度,需要配合使用能夠測量研磨痕跡的顯微鏡。

Nanotec研磨拋光機測厚原理:

首先,加入金剛石漿料,用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠繁砻孢M行拋光。接下來,觀察拋光痕跡,測量上圖中X與Y之間的距離。

根據(jù)測得的X、Y距離和拋光用球的半徑,用上述公式計算出膜厚。

Nanotec研磨拋光機規(guī)格
軸的轉(zhuǎn)速:100~3000轉(zhuǎn)/分
可設(shè)定的旋轉(zhuǎn)時間:1秒至60分鐘
大樣品尺寸:φ40mm

可選擇增加一個丙烯酸酯罩。
 

Nanotec研磨拋光機膜厚測量實例:

TiN涂層試樣
- 鋼球的直徑:30毫米
- 電機轉(zhuǎn)速:400轉(zhuǎn)/分鐘
- 測試時間:30秒
- 漿料類型:金剛石漿料1.0μm。

 

 

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